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多靶聚焦磁控濺射鍍膜機

多靶聚焦磁控濺射鍍膜機

所屬分類：鍍膜系統
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發布時間：2024-04-20 13:59:47

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產品概述

三靶聚焦共濺射鍍膜系統，可以滿足多組份或多層金屬和化合物濺射鍍膜，樣品臺同時具備公轉和自傳功能，樣品臺直徑200mm樣品，鍍膜有小區直徑180mm，薄膜厚度均勻性達到5%，靶材利用率達到30%以上。強磁場設計，可以滿足鐵磁材料濺射。濺射陰極主體采用聚四氟乙烯設計，優化水冷設計，可以滿足大功率密度濺射，成膜速率提高30%以上。

三靶聚焦.png

當前網址：

http://www.soduya.com/dmxt/80.html

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