一、產品應用
1、適用：大專院校、科研院所及企業進行薄膜新材料的科研與小批量制備。
2、產品特點/用途：
設備一體化設計，占地面積小，性能穩定，使用維護成本低；
設備配備2組蒸發源，兼容有機蒸發與無機蒸發，多元共蒸獲得復合膜/分蒸獲得多層膜，功能強大，性能穩定；
設備配備輝光前處理裝置，膜層結合力好；
適用于實驗室制備金屬單質膜、半導體膜、有機膜，也可用于生產線前期工藝試驗等。
二、設備參數
鍍膜方式 | 電阻蒸發 |
真空腔室結構 | D型結構 |
真空腔室尺寸 | Φ500×H600mm |
加熱溫度 | 室溫～250℃ |
旋轉基片臺 | Φ250mm |
蒸發源 | 2組金屬蒸發源 |
控制方式 | PLC+觸摸屏控制 |
占地面積 | 主機L1500×W1000×H1500mm |
總功率 | ≥10KW |
