設備采用增強型磁控陰極弧或非平衡磁控濺射技術，采用國際先進的陰極。該系列的涂層設備可提供的硬質涂層包括：TiN、TiAIN、CrN和CrAIN等，廣泛應用于刀具、工具/模具和有高耐磨要求的零部件。
本涂層設備具有良好穩定性和高度自動化程度，帶有成熟的金屬陶瓷涂層工藝。開放式的用戶界面也為用戶根據自身要求獨立開發工藝提供了可行性。
l PVD沉積技術：增強型磁控陰極電弧或非平衡磁控濺射;
l 2~20um厚各種金屬陶瓷類涂層工藝;
l 涂層沉積工藝氣體：N2，Ar，CH4;
l 控制方式：PLC加工業PC全自動控制。
l 刀具、工具/模具;
l 耐磨減磨應用的各種零件。
